دانلود کتاب اصول رسوب دهی شیمیایی بخار Dobkin

دانلود کتاب اصول رسوب دهی شیمیایی بخار Dobkin از سری کتاب های مرجع و تخصصی مهندسی شیمی در زمینه آموزش مبانی، اصول و روش های رسوب دهی و ته نشینی شیمیایی بخار ها می باشد. کتاب Principles of Chemical Vapor Deposition در سال 2010 از سوی انتشارات Springer و توسط D.M. Dobkin, M.K. Zuraw نوشته و تالیف شده است. در این کتاب لایه نشانی به روش CVD و مبانی آن به طور کامل شرح داده شده است.

Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. In addition, the book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of better processes and equipment.

This book will assist workers new to chemical vapor deposition (CVD) to understand CVD reactors and processes and to comprehend and exploit the literature in the field. The book reviews several disparate fields with which many researchers may have only a passing acquaintance, such as heat and mass transfer, discharge physics, and surface chemistry, focusing on key issues relevant to CVD. The book also examines examples of realistic industrial reactors and processes with simplified analysis to demonstrate how to apply the principles to practical situations.

مشخصات کتاب

• عنوان فارسی : اصول رسوب دهی شیمیایی بخار
• نویسنده(ها):  D.M. Dobkin, M.K. Zuraw
• سال انتشار:  2010
• زبان نوشتاری: انگلیسی
• شابک: 9048162777, 9789048162772, 9789401703697
• تعداد صفحات:  276 صفحه
• فرمت فایل: PDF
• حجم فایل فشرده:  8.28 مگابایت