دانلود کتاب Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level رسوب بخار شیمیایی: فرآیندهای رشد در سطح اتمی که شیمی آن بررسی شده است. رسوب شیمیایی بخار (CVD) یک روش رسوب در خلاء است که برای تولید مواد جامد با کیفیت بالا، با کارایی بالا استفاده می شود. این اولین کتابی است که فرآیندهای رشد CVD را در سطح اتمی با استفاده از ترکیبی از ابزارهای نظری و تجربی، از جمله محاسبات تئوری تابعی چگالی (DFT) پوشش می‌دهد. با نشان دادن روش‌شناسی پشت مدل‌سازی و شبیه‌سازی فرآیندهای رشد CVD، این متن راهنمایی و توصیه‌های عملی در مورد چگونگی کسب نتایج نظری موفق ارائه می‌کند. مثال‌های کار شده، مطالعات موردی، خلاصه‌های انتهای فصل و انیمیشن‌های فرآیندهای سطح اتمی برای کمک به یادگیری گنجانده شده‌اند. پس از خواندن این متن، محققان و دانش‌آموزان دانش لازم برای ایجاد فرآیندهای رشد مورد نظر برای رسوب مواد با خواص خاص را خواهند داشت.
مشخصات کتاب
- عنوان فارسی کتاب: رسوب بخار شیمیایی: فرایندهای رشد در سطح اتمی
- نویسنده(ها): Karin Larsson
- سال انتشار: 2022
- زبان نوشتاری: انگلیسی
- شابک: 0750331054, 9780750331050, 9780750331074, 0750331070
- تعداد صفحات: 416 صفحه
- فرمت کتاب: PDF
- حجم فایل فشرده: 14.3 مگابایت
دیدگاهها
هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.